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紫外光uv光解除臭设备利用光学原理设计了*的装置处理工艺,使空间内得以zui大限度地利用紫外线光催化反应,使杀菌效果成倍提高。纳米光氢离子cho91g净化装置。 无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,设备风阻低<30pa,可节约大量排风动力能耗。
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紫外光uv光解除臭设备只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。可适应高浓度、大气量、不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行安全稳定可靠。 无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,设备风阻低<30pa,可节约大量排风动力能耗。
紫外光uv光解除臭设备功能特点:
1、能迅速有效地杀灭各种细菌、病毒等微生物;
2、通过光解作用,能有效降解空气中异味气体;
3、操作简单,维护方便;
4、占地面积小,处理风量大;
5、无污染,环保性强,不会产生毒副作用;
6、投资成本低,运行费用低,设备安装方便;
7、利用光学原理设计了*的装置处理工艺,使空间内得以zui大限度地利用紫外线光催化反应,使杀菌效果成倍提高。纳米光氢离子cho91g净化装置。
防热措施:
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